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明硕光学紫外增透膜193nm熔石英ArF光刻机照明系统光学元件配
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明硕光学紫外增透膜193nm熔石英ArF光刻机照明系统光学元件配

产品标签  | 193nm紫外增透膜 ArF光刻机光学元件 熔石英深紫外窗口 DUV照明系统光学元件 高损伤阈值增透膜

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明硕光学紫外增透膜193nm熔石英ArF光刻机照明系统光学元件配

本产品采用高纯度熔石英基底，配合精密镀膜工艺，在193nm波长实现极低反射率与高透过率，满足ArF光刻机照明系统对光学元件的高均匀性、高激光损伤阈值及长期稳定性要求，适用于深紫外光刻、半导体检测等高端应用场景。

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    产品特性：增加透过率是否进口：否产地：成都
    加工定制：是品牌：明硕光学型号：MS-增透镜
    形状：圆形、方形、异形等颜色：银色尺寸：φ2-φ150mm
    厚度范围：0.21-10mm材料：光学玻璃主要用途：透蓝紫光，截止截止红黄绿光
    规格：根据客户需求截止深度：OD2~OD6光洁度：40/20
    透过率：≥95%

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